2026年度最新招标：低维电子材料海河实验室磁控溅射薄膜制备系统采购竞争性磋商公告

2026年度最新招标：低维电子材料海河实验室磁控溅射薄膜制备系统采购竞争性磋商公告

（招标编号：XFZB-2026-TJHX-ZHO17）

项目所在地区：天津市

一、招标条件

本低维电子材料海河实验室磁控溅射薄膜制备系统采购已由项目审批/核准/备案机关批准，项目资金来源为国有资金48万元，招标人为低维电子材料海河实验室。本项目已具备招标条件，现招标方式为其它方式。

二、项目概况和招标范围

规模：

1、磁控溅射薄膜制备系统：1台套。

2、设备基本情况：该设备是一台共焦式溅射镀膜系统，可以实现直流/射频溅射、共溅射、反应溅射、磁性材料（铁、钴、镍等）溅射、自动送样、工艺过程加热。设备采用手自动控制系统，可以实现直流/射频溅射、共溅射、反应溅射、磁性材料（铁、钴、镍等）溅射、自动送样、工件预清洗、工艺过程加热。该设备是薄膜材料制备及性能研究是材料、电子器件制作等研究领域是必须设备；目前在薄膜材料制备及性能研究的发展中，国内外都非常重视晶态及非晶态薄膜材料的制备研究。制造小规模集成电路、半导体器件、红外器件、声表器件、微机电系统（MEMS）、微流控等，具有操作方便、性能稳定可靠等特点，该设备还可以为材料、物理、化学、电子、能源等相关学科提供实验支撑。设备的购置将有利于从事上述方面研究的教师、学生顺利开展研究工作。具体要求详见项目需求书。

3、项目不接受进口产品参与磋商。

范围：本招标项目划分为1个标段，本次招标为其中的：

（001）低维电子材料海河实验室磁控溅射薄膜制备系统采购；

三、投标人资格要求

（001低维电子材料海河实验室磁控溅射薄膜制备系统采购）的投标人资格能力要求：

1.供应商须是在中华人民共和国注册，具有独立法人资格，提供营业执照或事业单位法人证书或民办非企业单位登记证书或社会团体法人登记证书或基金会法人登记证书；

2.供应商须提供经会计师事务所审计的2024或2025年度财务审计报告或2026年银行出具的资信证明：

3.供应商须提供提交2026年1月至今任意一个月缴纳社会保险费的相关证明材料：

4.供应商须提供税款所属期为2026年1月至今任意一个月依法纳税的相关证明材料：

5.供应商须提供响应文件开启时间前3年在经营活动中没有重大违法记录的书面声明（截至响应文件开启时间成立不足3年的供应商可提供自成立以来无重大违法记录的书面声明）。

6.本项目不接受联合体磋商；

本项目不允许联合体投标。

四、招标文件的获取

1.获取磋商文件的时间：2026年7月7日至2026年7月13日出售磋商文件，每日9：00-11：00，14：00-17：00（法定节假日除外）。

2.获取磋商文件的方式：

（1）现场发售。

（2）本项目推荐网上报名供应商将低维电子材料海河实验室磁控溅射薄膜制备系统采购（项目编号：XFZB-2026-TJHX-ZH017）及供应商名称、联系人、联系电话发送至gxzbvip518@163.com邮箱报名，购买采购文件。

采购文件的售价：500元。（采购文件一经售出，所收费用概不退还）。

五、投标文件的递交

递交截止时间：2026年07月24日14时30分

递交方式：纸质文件递交

六、开标时间及地点

开标时间：2026年07月24日14时30分

开标地点：天津市

注：了解公告详情可发送项目名称、单位名称、联系电话发至邮箱

联系人：陈吉（13581595570）

联系人：徐梦莹（18611886439）

邮箱：gxzbvip518@163.com